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龍翩真空科技股份有限公司 股價,公司資料

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日期成交價漲跌漲跌幅總量日最高日最低日均價
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2026/01/0730.05 1,01030.0530.0530.05
2026/01/0630.05 0.32 1.081030.0530.0530.05
2026/01/0530.05 1.03 3.591330.0528.6529.73
2026/01/0228.70 1.3 4.33128.7028.7028.70
2025/12/31-------
2025/12/2928.60 0.12 0.426,02228.8028.6028.63
2025/12/26-------
股票代號5267
統一編號27390847 資本額(實收)255,000,000元
董事長主吉投資有限公司代表人楊吉祥經理人陳景龍
發言人楊吉祥代理發言人邱浩哲
公司電話(04)26595018公司傳真(04)26595012
發言人電話(04)26595018成立日期93/07/05
公司地址(435)台中市梧棲區草湳里大通路二號
公司網址www.lp-vacuum.com
普通股25,500,000股(含私募0股)特別股0股
上興櫃日期101/02/24下興櫃日期-
產品/業務光學儀器製造業機械設備製造業精密儀器批發業
股務代理第一金證券股份有限公司股務電話(02)25635711
股務地址台北市長安東路一段22號5樓
簽證會計師安永聯合會計師事務所
歷年除權除息
年度除息(元)除權(股)最後過戶日
113除息1.5元
112除息2.6元
111除息2元
110除息2元
109除息2.01581元
108除息3元
107除息3元
106除息2元
105除息2元
104除息3元
103除息3元
102除息3.5元
101除息4.5元
100除息3元除權500股100/08/26
99除息2元除權250股99/09/24
龍翩真空科技最新動態-台灣國際光電週 精密光學產業大集合-未上市股票新聞
芬蘭BENEQ與台灣真空鍍膜設備大廠-龍翩真空科技於4月20日聯手 舉辦「ALD光學鍍膜研討會」,會中邀集台灣各大光學廠商齊聚一堂 分享國際間前瞻性產品應用與高端製程技術的開發進展,期藉此業界 交流拓展ALD技術與量產設備在台灣光學市場,開拓更多的合作發展 機會。

  BENEQ自1984年起開始使用原子層沉積ALD進行世界上首次工業生產 。今日BENEQ已經成為全球領先的ALD設備生產商,提供種類廣泛的技 術產品和研發服務,並致力於將原子層沉積技術投入到各項研究中, 亦通過工業ALD解決方案推動技術發展的大趨勢。

  原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)係藉由前驅物氣體 與基板表面形成自我侷限反應,進行單層及多層原子薄膜沉積,並具 備大面積、高階梯覆蓋率、高厚度均勻性、低溫製程及原子級膜厚控 制等優點。

  BENEQ ADL半導體業務處長謝祖德表示,原子層沉積(ALD)技術如 今備受重視,主要受惠於積體電路工業的奈米製程發展對ALD的需求 增加,其中已有多項關鍵薄膜製程從傳統CVD或PVD方式改由ALD取代 ,而目前除了半導體以外,許多產業及領域皆有元件微型化的趨勢, 近年看到原子層沉積開發更接近產業需求等級的12吋量產型ALD設備 外,在光電領域和生醫材料等領域,例如:照相機模組、車載、自駕 、激光雷達、VR及醫材等,從發展趨勢來看未來幾年將有極佳的應用 機會。

  龍翩真空科技董事長楊吉祥表示,龍翩自1991年成立以來即積極於 真空鍍膜機之開發與製造,致力為客戶建構完整的「Turn-key」服務 ,從產品設計、開發、設備製造、生產規劃、操作人員訓練及製程設 計諮詢等完整Total-Solution服務,於光學產業界深耕多年:每每因 應產業發展趨勢之需,與業界共同先衝鋒陷陣並建立濃厚革命情感, 提供該產業更新的技術與相關製程供業界使用,充分發揮產業鏈重要 的環節。

  目前龍翩真空營運主軸:真空蒸鍍/濺鍍設備製造、薄膜製程技術 服務、藍芽溫度監控裝置、真空配件、成膜輔耗材銷售、Olympus光 學檢測儀器等總代理;就在西洋情人節2月14日,龍翩與芬蘭BENEQ結 為關係伙伴,從今往後,龍翩將在耕耘多年平台上提供ALD設備服務 及銷售。

  BENEQ和龍翩真空今後將合作開發和積極推廣ALD原子層沉積鍍膜技 術,應用於台灣光學市場的高端曲率鏡片;ALD技術為最具挑戰性的 結構提供均勻的批覆薄形鍍膜層,極適合高端光學應用,龍翩真空身 為業界先驅應為產業未來發展及應用全力以赴。<摘錄工商>
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