本屆展覽，參展廠商精銳盡出，展出不少全新產品、技術，其中，美上鎂公司發表的黑鉻化、無電解鎳、複合鎳鐵氟龍、微弧氧化、硫酸陽極、硬膜陽極等表面處理製程，吸引不少來賓駐足觀賞，成為展場亮點之一。

以次此發表的黑化鉻技術為例，其鍍層係以過渡金屬與非金屬為主的一種特殊保護層，為一多元金屬氧化膜，鍍層不反光的特性，具有優異的光穩定性與熱穩定性。鍍層為無機元素組成，不會造成褪色困擾，光吸收率達90％以上，且在400°C環境下，鍍層仍穩定無剝離。

現場不少來賓詢問黑化鉻鍍層的特色，據了解，黑化鉻除具有吸光性，對特定製程環境中所產生的酸鹼氣體也可施以功能性樹脂披覆，有效提升抗酸鹼能力，適用於光學設備、半導體周邊設備等嚴苛環境。
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